飞行时间二次离子质谱仪(TOF-SIMS)

更新时间:2025-12-26 所属栏目:行业信息

  飞行时间二次离子质谱仪(Time-of-Flight Secondary Ion Mass Spectrometry, TOF-SIMS)是一种超高灵敏度、高空间分辨率的表面分析技术,能够对材料表面(1–3 nm 深度)进行元素、同位素、分子碎片乃至有机分子的定性与半定量分析,并支持二维成像和三维深度剖析。广泛应用于半导体、电池、生物材料、催化、聚合物、地质等领域。

  工作原理

  一次离子轰击:

  使用高能(通常几千至几万电子伏特)的一次离子束(如Bi⁺, Au⁺, C₆₀⁺, O₂⁺, Ar⁺)轰击样品表面。

  一次离子与表面原子/分子发生碰撞,将能量传递给样品,导致表面物质以中性粒子、原子或分子离子的形式被溅射出来,这个过程称为“溅射”。

  二次离子产生:

  被溅射出的一小部分粒子(约千分之一)会带上电荷,形成二次离子(正离子或负离子)。

  质量分析与鉴别(飞行时间核心):

  产生的二次离子被施加一个高电压提取进入一个无场漂移管。

  所有离子在相同的初始动能下开始“赛跑”。

  离子的飞行时间与其质荷比(m/z)的平方根成正比。

  公式简化: t ∝ √(m/z), 其中 t 为飞行时间,m 为质量,z 为电荷数。

  质量小的离子跑得快,先到达探测器;质量大的离子跑得慢,后到达探测器。

  信号检测与成像:

  探测器记录每个离子到达的精确时间,将其转换为质谱。

  通过扫描一次离子束在样品表面的位置,并结合每个位置产生的二次离子信号,可以生成特定离子(如某元素或分子碎片)的二维分布图像。

  通过持续轰击同一区域,逐层剥离材料,可以获取不同深度处的成分信息,实现三维重构。

  关键特点与优势

  极高的表面灵敏度:

  信息主要来自z顶端的1-3个原子/分子层,是真正的表面分析技术。

  检测极限极低,可达ppm甚至ppb级别,非常适合分析表面痕量污染物、掺杂剂或添加剂。

  出色的质量分辨率:

  飞行时间质量分析器能够精确区分质量差异极小的离子(如区分CO⁻(27.9949)和C₂H₄⁻(28.0313))。

  这是其核心优势之一,使其能够准确识别分子离子和复杂碎片,进行分子结构鉴定。

  全面的信息获取:

  可同时检测从氢到铀的所有元素及其同位素。

  可检测分子离子和分子碎片,提供化学结构和官能团信息(这是EDS/AES等技术无法做到的)。

  优秀的成像能力:

  空间分辨率可达100纳米以下(使用液态金属离子源时)。

  可生成多种离子的化学分布图,直观展示成分不均匀性。

  静态与动态模式:

  静态SIMS:使用极低的一次离子剂量(<10¹³ ions/cm²),确保在分析期间仅破坏极少量的表面单层,获得原始表面化学信息,适合有机材料、高分子薄膜分析。

  动态SIMS:使用高剂量离子束,快速溅射材料,主要用于深度剖析和痕量元素分析。


  在科学研究与工业中的典型应用

  半导体与微电子:

  表面污染物分析:鉴定晶圆表面的有机/无机污染物(如光刻胶残留、金属离子)。

  薄膜成分与均匀性分析:分析高k介质层、阻挡层、金属互连层的成分和杂质分布。

  失效分析:定位器件失效点的化学异常。

  能源材料(与之前讨论紧密相关):

  电池材料:

  电极表面化学:分析正负极材料表面的CEI(阴极电解质界面膜)和SEI(固体电解质界面膜)的分子组成、厚度和分布。

  掺杂与偏聚:研究掺杂元素(如NMC中的Al, Mg)在颗粒表面的偏聚行为。

  循环后分析:检测电极表面副反应产物、金属溶解(如Mn, Co)及再沉积。

  太阳能电池:分析钙钛矿、CIGS等薄膜中的元素分布和界面扩散。

  高分子与有机材料:

  表面改性分析:研究等离子体处理、接枝聚合后表面的化学变化。

  添加剂与助剂分布:观察抗氧化剂、增塑剂等添加剂在聚合物表面的迁移和分布。

  生物材料涂层:分析蛋白质、药物在生物医用材料表面的吸附和分布。

  药物研发与生命科学:

  药物活性成分分布:直接可视化药片横截面中API(活性药物成分)的分布均匀性。

  单细胞成像:研究细胞膜上的脂质、代谢物分布。

  地质与宇宙化学:

  分析陨石、月壤颗粒中的微量元素和同位素分布。

来源:网络

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