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  • 202607-02
    半导体材料砷化镓的电阻率测试方法

    砷化镓(GaAs)作为第二代化合物半导体材料的典型代表,因其具有高电子迁移率、直接带隙和良好的抗辐射性能,在高速高频器件...

  • 202607-01
    晶圆厚度与翘曲度检测技术

    晶圆厚度与翘曲度是半导体制造过程中的关键几何参数,直接影响光刻对焦、薄膜沉积均匀性以及器件良率。目前,业界主要采用非接触...

  • 202607-01
    半导体材料氮化铝热导率测试方法

    氮化铝(AlN)作为高功率电子器件封装与散热结构中的关键材料,其热导率的准确测量至关重要。目前,业界针对氮化铝热导率的测...

  • 202607-01
    半导体材料氮化镓电阻率测试方法

    氮化镓是一种重要的半导体材料,广泛应用于LED、半导体激光器等领域。氮化镓的性能测试对于材料的研究和应用具有重要意义。氮...

  • 202606-30
    半导体碳化硅(SiC)的化学分析方法

    碳化硅的检测主要包括两方面:一是对碳化硅的化学成分进行分析,以确定其纯度和杂质含量;二是对碳化硅的物理性能进行测试,以确...

  • 202606-30
    半导体碳化硅(SiC)导热系数测试方法

    碳化硅(SiC)是一种具有优异热管理性能的先进陶瓷材料,其导热系数(热导率)通常在一个较宽的范围内波动,主要受晶体结构、...

  • 202606-30
    氮化硅陶瓷材料的热膨胀系数测试原理及测试条件

    氮化硅泡沫陶瓷作为一种先进的多孔陶瓷材料,凭借其优异的耐高温性、低密度、高比强度、良好的抗热震性及可调的介电性能,在航空...

  • 202606-29
    负极热稳定性分析方法与原理

    负极材料的热稳定性是决定锂离子电池整体安全性的关键因素。评估负极热稳定性的核心在于分析其在不同温度下与电解液、SEI(固...

  • 202606-29
    半导体SIMS分析工作原理及应用场景

    半导体二次离子质谱(SIMS)分析是一种高灵敏度、高分辨率的表面分析技术。它通过高能量的一次离子束(如铯、氧或氩离子)轰...

  • 202606-29
    半导体器件定点FIB切割分析

    半导体器件的定点聚焦离子束(FIB)切割分析,是一项利用高能离子束在纳米级精度下对特定材料或器件进行选择性铣削、切割和截...

  • 202606-26
    TGA-FTIR-MS联用分析电池热失控气体产物

    TGA-FTIR-MS联用技术是目前电池热失控气体产物分析中z前沿的逸出气体分析(EGA)手段之一。它将热重分析仪(TG...

  • 202606-26
    ARC、DSC、TGA三种热分析方法的区别

    ARC(加速量热仪)、DSC(差示扫描量热仪)和TGA(热重分析仪)是热分析领域常用的三种仪器,它们在原理、测量对象和应...

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